超高压电子显微镜（超高压电子显微镜是电压在）
摘要：
x射线与电镜的联系与区别？电镜制样技术有哪些？普通显微镜灯泡一般多少瓦？x射线与电镜的联系与区别？电镜是利用电子的波动性，用电子代替光波设计的显微镜。由于经高压加速的电子波长短，电... x射线与电镜的联系与区别？
电镜是利用电子的波动性，用电子代替光波设计的显微镜。由于经高压加速的电子波长短，电镜的分辨率很高，能显示出光学显微镜不能分辨的微小物体，如红血球等。
x射线是电磁波，波长约为1Å，与晶体的原子间距相近，因此入射到晶体上会发生衍射。
电子也有波动性，波长与其动量成反比，经过几十伏特加速电压加速的电子，波长与x光差不多，入射到晶体上也发生衍射，衍射图样与x光十分相似。电子的波动性最初就是这样得到实验证实的。
电镜制样技术有哪些？
你好，电镜制样技术主要包括以下几种：
1. 常规金属薄膜制备：将金属样品通过真空蒸发、溅射或离子镀等方法制备成较薄的金属膜，作为电子显微镜观察的样品。
2. 冷冻断裂法：将生物样品快速冷冻，然后通过断裂的方式制备样品。该方法适用于观察生物样品的内部结构。
3. 离子切割法：利用离子束将样品表面削薄，制备出薄样品。该方法适用于对非导电材料的制备。
4. 离子抛光法：通过离子束对样品进行抛光，制备出平整的样品表面。该方法适用于制备金属、半导体等导电材料的样品。
5. 切片法：利用超薄切片机对样品进行切割，制备出薄样品。该方法适用于制备生物、材料等样品。
电镜制样技术包括以下几种：1. 切片制备：将材料切成薄片，通常厚度在几微米到几十纳米之间。
可以使用切片机、超声切割机、慢速切割机等设备逐层切片。
2. 离子蚀刻：通过离子束撞击样品的表面，使样品表面逐渐被蚀刻掉，并形成像沟槽、凹槽等结构。
3. 蒸发制备：通过高温蒸发材料并在基底表面形成一层厚度在几十纳米到几微米之间的金属或非金属薄膜。
4. 染色：将样品表面染上某种物质，使其可以反映电子束，以便更好地观察结构和形态。
以上几种电镜制样技术，根据样品的不同性质，会选择不同的制备方法和技术组合。
电镜制样技术包括传统机械制样和离子束制样两种方法。
1.传统机械制样：主要是通过机械打磨、抛光或切割等方法来制备样品。
2.离子束制样：主要是利用离子束的加工作用，对材料表面进行切割、打磨和形状加工等处理，制得高质量的样品。
电镜制样技术在材料科学、半导体行业、生物医学等领域应用广泛，随着科技的不断发展，电镜制样技术也在不断地进步和完善。
回答如下：电镜制样技术有以下几种：
1. 薄片制备技术：将样品切成薄片，通常使用切片机或超声波切片机。
2. 离子切割技术：使用离子束将样品切割成非常薄的片，通常厚度为几十纳米。
3. 冷冻切片技术：将样品冻结在低温下，然后使用特殊的切片机将其切成薄片。
4. 离子磨削技术：使用离子束对样品进行磨削，从而制备出非常薄的样品。
5. 雷射切割技术：使用激光束将样品切割成薄片，通常使用电子显微镜观察。
6. 压缩切片技术：将样品置于高压下，然后使用切片机将其切成非常薄的片。
普通显微镜灯泡一般多少瓦？
金相显微镜的光源通常采用钨丝白炽灯、卤素灯、碳弧灯及氙灯等。
(1) 钨丝白炽灯
一般中小型显微镜上都配有低压钨丝灯，工作电压一般为6～8V，用一小调压器调节，功率为15～l00W。这种灯适合于金相组织的观察。
(2) 卤素灯(卤钨灯)
目前金相显微镜中供观察用的低压白炽钨丝灯巳逐渐为卤素灯所取代。这是因为普通灯泡中的钨丝白炽发光时，表面钨会蒸发扩散而聚集在灯泡上，使灯泡发黑，降低照明亮度，同时灯丝也会逐渐变细以至断掉。如果在灯泡中加入少量的碘，通过所谓“碘钨循环”，就可以有效地避免上述缺陷。它的原理是：碘分子在高温灯丝附近分解为碘原于(I)，碘原子与灯泡壁上的钨在250～1200℃的范围内可化合生成易挥发的碘化钨(WI )，碘化钨一扩散到高温(＞1400℃)的钨丝上又会发生分解，沉淀到灯丝上。显然，如此循环可以避免灯泡发黑，延长灯泡的使用寿命。卤钨灯的灯泡必须用耐高温的石英玻璃制造。
(3) 碳弧灯
碳弧灯是利用两支暴露在空气中而相互靠近的碳棒，通电后产生强烈的电弧发出亮度很高的光。一般采用交流电源供电，但由此将产生电弧闪烁跳动，光源不稳定，特别不利于照相，这是它的主要缺点。
(4) 氙灯
氙灯是在石英玻璃管内装上钨电极并充上高压氙气，利用放电发光。其特点是光强高、输出稳定、寿命较长。此外，氙灯光具有类似日光性质的连续光谱，可以用于彩色照相。氙灯是金相显微观察的光源之一。
氙灯容易爆炸，因此使用氙灯要特别注意安全，安装或更换氙灯时要戴防护眼镜或面罩以及防护手套，使用时间至多不得超过规定时间的125％。使用新氙灯，应在起动前用酒精把石英表面的油污擦干净。氙灯关闭后要待冷却后(一般约10min 以后)才能再次启动。尽量减少启动次数可以显著延长氙灯的使用寿命。
